;)
;)
- 자기자본 대비 33.67% 규모, 신규 Panel 공법 도입 목적
코스피 상장사 해성디에스는 9월 18일 이사회를 열고 반도체 Substrate 제조용 기계장치 등에 1900억원을 투자하는 신규 시설투자를 결정했다고 공시했다.
이번 투자금액은 2025년말 연결재무제표 기준 자기자본인 5643억 6971만 3446원의 33.67%에 해당하는 규모다. 투자 기간은 이사회 결의일인 2026년 9월 18일부터 시작해 오는 2030년 12월 31일까지 진행될 예정이다.
해성디에스가 밝힌 투자 목적은 신규 생산방식인 Panel 공법 도입을 통한 중장기 성장 기반 마련 및 제조 경쟁력 확보이다. 고집적 다품종 제품의 수요 확대와 제품 전환주기 단축에 대응하기 위한 취지다.
이날 열린 이사회에는 사외이사 3명이 전원 참석했으며, 전원 사외이사로 구성된 감사위원회 위원들도 참석했다. 회사 측은 투자금액과 투자기간이 향후 설비 구매 및 셋업 진행 경과 등에 따라 변동될 수 있다고 설명했다.
박승호 데이터투자 기자 shpark@datatooza.com
[알림] 본 기사는 투자판단의 참고용이며, 이를 근거로 한 투자손실에 대한 책임은 없습니다.
< 저작권자 ⓒ 데이터투자, 무단 전재 및 재배포 금지 >
